随着中国一家手机企业再度发布5G手机，外媒拆解证实这款手机采用了中国自己的7纳米工艺生产，意味着中国的浸润式光刻机已进入生产线，这对于全球最大的光刻机企业ASML来说无疑是震惊。

ASML是全球最大的光刻机企业，虽然它当前最先进的光刻机已是EUV光刻机，但是销售的光刻机当中占比最大的还是DUV光刻机，此前它曾预期未来几年会将DUV光刻机的产能增加至600台，而EUV光刻机仅是增加到90台，可以看出DUV光刻机仍然是它最大的收入来源。

DUV光刻机其实可以生产出7纳米工艺，台积电的第一代7纳米工艺就是以DUV光刻机2000i生产的，可以看出DUV光刻机其实仍然是相当先进的设备，至今全球仅有台积电、三星和中国的芯片制造企业生产出7纳米，其他芯片企业大多都止步于14纳米及以上工艺。

随着全球芯片出现供给过剩，大多数芯片制造企业都已停止扩张14纳米及以上工艺的产能，毕竟这部分芯片市场已逐渐稳定，仅有中国为了提升芯片自给率，大举扩张这部分工艺产能，如今中国又成功量产7纳米，预计接下来还将会进一步扩张7纳米工艺产能。

中国的芯片产能扩张对全球芯片市场将会产生重要影响，中国是全球最大的芯片采购国，中国采购了近七成的芯片，然而随着中国不断提升芯片自给率，中国在全球采购的芯片将会逐渐下降，今年以来中国减少的芯片采购量就已达到600亿颗。

中国减少芯片采购量，将进一步加剧全球芯片的供给过剩，全球芯片企业扩张芯片产能就更没必要了，近期美国芯片巨头Intel就指出如果美国芯片不卖给中国，那么美国芯片还能卖给谁，就可以看出中国这个全球最大的芯片采购国对全球芯片市场的巨大影响力。

如此中国对全球芯片设备的影响将会逐渐显现，对于ASML来说，他就将面临如果不卖DUV光刻机给中国，那么它的DUV光刻机将不会再有人买了，毕竟随着中国扩张芯片产能，诸多芯片企业能维持现有的市场就已经不错了。

从中国量产7纳米可以看出，中国的光刻机已取得重大突破，业界人士指出从28纳米到7纳米都可以采用浸润式光刻技术，如今中国可能只是采用第一批浸润式光刻机量产7纳米，普遍认为这是通过多重曝光技术实现的，这样的技术可能暂时还落后于ASML，这就成为ASML的时间窗口。

难怪在中国这家手机企业发布5G手机之后，ASML迅速表示已获得荷兰许可，可以对中国出售2000i光刻机，比之前的1980Di更先进，显示出ASML也认识到了如果再不卖这类更先进一点的DUV光刻机给中国，之前的1980Di就无法从中国抢到市场了。

这个时间窗口也不会太长，业界人士认为最多两三年时间，中国的7纳米DUV光刻机也将投产，到时候就真的没ASML什么事了。

事实证明中国在科技研发方面总是能迅速后来者居上，如今即使面临如此大的困难，中国也能迅速研发出浸润式光刻机，加速了光刻机技术的发展，显示出美国的阻力激发了中国芯片行业的潜力，几年时间就将此前近20年的差距迅速拉近，面对如此境况，恐怕欧美芯片设备业界会相当后悔吧？